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Pure Gas
반도체 디바이스 제조공정에는 다양한 공정용 가스들이 필요로 하는데 크게 벌크가스(Bulk or Carrier Gas) 및 공정용 가스(Electronics Specialty Gases)로 대별되고 벌크가스 라 함은 산소, 질소, 알곤, 수소 등으로 공정 중에 분위기가스로 다량 사용되어지는 가스를 총칭하고 공정용 가스라 함은 디바이스의 패턴 형성 및 장비 세척용에 사용되는 가스를 말한다. 공정 및 장비세척용 가스에는 WF6, SiH4, PH3, AsH3, BCl3, HF, ClF3, NF3 및 여러 종류의 도판트 가스들이 공정에 따라서 사용되어지고 있다. 대부분의 반도체 공정용 가스들은 맹독성이거나 자연발화성이 강한 가스들로 안전 메뉴얼에 엄격히 준해서 저장, 취급 및 운송을 해야 한다. 아래 반도체 공정용 가스들은 국내외 생산자를 통해 소싱하여 공급되고 있다.
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